超LSI技術研究組合

超LSI技術研究組合の概要

超LSI技術研究組合は、官民が連携し、VLSI（超大規模集積回路）の製造技術を確立するためのロードマップを策定した技術研究機関です。この組合のユニークな点は、異なる競合企業の技術者たちが共同で技術課題に取り組むところです。これにより、他の国でも同様の形式が採用されるようになりました。

研究の背景と目的

日本では、集積回路の技術向上を目指す動きが以前から見られました。特に電電公社を中心に、いくつかのプロジェクトが先行して行われており、通商産業省の支援のもとで、工業技術院電子技術総合研究所や会社同士の連携によって、製造設備の国産化が進められてきました。この流れを受けて、LSI技術は民生品の電卓から、大型コンピュータ用へとシフトしました。

超LSI技術研究組合は、競争を超えた「呉越同舟」の精神で、各社が抱える共通の課題に取り組みました。具体的には、超LSI向けの製造装置の開発と、シリコンウェハーの品質向上に重点を置きました。これにより、参加企業は総勢約100名で、4つのテーマと6つの研究室の体制で活動しました。この取り組みの結果、1980年代初頭には、国内半導体メーカーが使用する製造装置の国産化比率が20%から70%に急激に上昇しました。

技術革新と成果

この研究所が達成した代表的な成果には、電子線描画装置と縮小投影型露光装置（ステッパー）の国産化が含まれます。これらの装置は、国内市場だけでなく、国際的な市場でも大きな影響を与え、両者ともに過半数の市場シェアを獲得しました。このような成功は、日本の半導体産業が1980年代に隆盛を誇る要因となりました。

その後の影響

1990年代以降、世界各国では、超LSI技術研究組合と同様の共同研究プロジェクトが動き出しました。しかし、日本国内においては、その後20年間、後継の計画が存在しなかったため、半導体業界の競争力が低下したとの指摘も少なくありません。この教訓は、今後の技術開発において重要なポイントとなるでしょう。

関連するプロジェクト

超LSI技術研究組合と同様のコンソーシアムには、アメリカのSEMATECHや、ニューヨーク州立大学のG450Cプロジェクトがあります。これらは、日本の研究機関が競争力を保つために参考にするべき事例であり、国際的な連携が新たな技術革新を生む基盤ともなり得ます。

参考文献

1. 『電子立国日本の自叙伝』日本放送出版協会、1996年。
2. 垂井康夫 著、千葉文隆 編『超LSI共同研究所物語』共同研究所員、武蔵野展望社、2019年。

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