X線光電子分光(XPS)は、物質の表面分析に用いられる手法の一つで、
光電子分光法の一種です。XPSは、試料表面に
X線を照射し、そこから放出される
光電子のエネルギーを測定することで、試料を構成する元素の種類や、それぞれの元素の化学状態を分析します。XPSは、Electron Spectroscopy for Chemical Analysis(ESCA)とも呼ばれます。
原理
XPSの原理は、物質に特定のエネルギーを持つ
X線を照射すると、
原子軌道に束縛されている
電子が
X線のエネルギーを吸収し、
光電子として物質表面から放出される現象に基づいています。この
光電子のエネルギー(E)は、入射した
X線のエネルギー(hν)、
電子の結合エネルギー(E_B)、分光器の
仕事関数(Φ)を用いて、以下の式で表されます。
E = hν - E_B - Φ
この式から、
X線のエネルギーが一定であれば、
光電子のエネルギーを測定することで、
電子の結合エネルギー(E_B)を求めることができます。
電子の結合エネルギーは、元素固有の値であるため、元素分析が可能となります。さらに、結合エネルギーの微小な変化(化学シフト)を分析することで、その元素の化学状態や
電子状態(酸化数など)を調べることができます。原子番号の大きい元素の場合、スピン軌道分裂により複数のピークが現れることがあります。
定量分析
XPSでは、
光電子の強度(I)を測定することで、定量的な分析も可能です。
光電子の強度は、以下の式で表されます。
I = F(E)
X₀ N
τ(E) σ
cosθ
ここで、F(E)は装置の透過関数、X₀は入射X線強度、Nは原子密度、τ(E)は減衰長、σは光イオン化断面積、θは光電子取り出し角度を表します。装置と測定条件を一定に保つことで、これらのパラメータを感度係数に含めることができ、各元素の濃度を定量的に算出できます。
具体的には、i成分の濃度(N_i)、光電子強度(I_i)、相対感度係数(S_i)を用いると、以下の式で各成分の濃度比を算出できます。
N_i / ΣN_i = (I_i / S_i) / Σ(I_i / S_i)
化学シフト
化学シフトとは、電子の結合エネルギーが、元素の化学状態によってわずかに変化する現象です。化学シフトは、核磁気共鳴(NMR)における化学シフトと同様に、周囲の原子との相互作用によって生じます。単体元素Aを基準としたときの化合物Bの化学シフト(ΔE_A^B)は、以下の式で表されます。
ΔE_A^B = K(q_A - q_B) + (V_A - V_B)
ここで、Kはカップリング定数、qは価電子の有効電荷、Vはマーデルングポテンシャルを表します。この式の第1項は、内殻電子と価電子の電子-電子相互作用の差に相当します。
XPSの特徴
利点
ほぼすべての元素の検出と
電子状態の分析が可能(例:Fe(II)とFe(III)の区別)。
定量性があり、組成分析が可能(有効数字1桁程度)。
物質表面(数nm)の元素分布を分析可能。深さ方向の元素分布は、アルゴン
エッチング併用で可能。
導体、絶縁体、無機物、有機物を問わず測定可能。
欠点
水素と
ヘリウムは測定不可。
高真空下で安定な試料が必要。
絶縁体の測定では、チャージアップによる影響が大きい。
X線照射による試料損傷の可能性。
炭素化合物の定量は、装置由来の汚染により困難な場合がある。
XPS装置
XPS装置は、主に以下の要素で構成されます。
X線源: MgKα線(1253.6eV)やAlKα線(1486.6eV)などの軟X線を使用。高分解能が必要な場合はシンクロトロン放射光が用いられる。単色化X線源を用いると、スペクトルがシャープになる。
真空ポンプ: 試料の表面汚染を防ぐため、10^-7Pa以下の超高
真空を維持。
ターボ分子ポンプ、ロータリー
ポンプ、イオン
ポンプ、チタンサブリメーション
ポンプなどが用いられる。
エネルギー分析器: 静電型エネルギー分析器を使用し、光電子の運動エネルギーを測定。同心半球型アナライザー(CHA)が一般的。
検出器:
電子倍増管(チャンネルトロン、マルチチャンネルトロン、マイクロチャンネルプレート)を使用。
XPSの測定方法
XPSの測定モードには、主に以下のものがあります。
ワイドスキャン(サーベイスキャン)モード: 表面元素の定性分析に使用。広いエネルギー範囲をスキャン。
ナロースキャンモード: 表面元素の定量分析、化学状態や
電子状態の分析に使用。特定元素のピークを詳細に測定。
深さ分析モード: スパッタリングと組み合わせて、深さ方向の元素分布を分析。
マッピングモード: 試料を移動させながら分析し、線分析や面分析を行う。
測定時には、
仕事関数やチャージアップの補正が必要となります。炭素のC1sピークを基準として補正を行うことが一般的です。
参考文献
Annotated Handbooks of Monochromatic XPS Spectra, PDF of Volumes 1 and 2, B.V.Crist, published by XPS International LLC, 2005
Handbooks of Monochromatic XPS Spectra, Volumes 1-5, B.V.Crist, published by XPS International LLC, 2004
Surface Analysis by Auger and X-ray Photoelectron Spectroscopy, ed. J.T.Grant and D.Briggs, published by IM Publications, 2003
Practical Surface Analysis by Auger and X-ray Photoelectron Spectroscopy, 2nd edition, ed. M.P.Seah and D.Briggs, published by Wiley & Sons, 1990
Practical Surface Analysis by Auger and X-ray Photoelectron Spectroscopy, ed. M.P.Seah and D.Briggs, published by Wiley & Sons, 1983
Surface Chemical Analysis -- Vocabulary, ISO 18115 : 2001, International Organisation for Standardisation (ISO), TC/201, Switzerland
Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, J.F.Moulder, W.F.Stickle, P.E.Sobol, and K.D.Bomben, published by Perkin-Elmer Corp., 1992
Handbook of X-ray Photoelectron Spectroscopy, C.D.Wagner, W.M.Riggs, L.E.Davis, J.F.Moulder, and G.E.Mullenberg, published by Perkin-Elmer Corp., 1979
吉田能英「表面分析―XPS : X線光電子分光―」『日本画像学会誌』第50巻第5号、日本画像学会、2011年、463-469頁
関連技術
光電子分光
* 紫外
光電子分光