堀場エステック

株式会社堀場エステック

会社概要

株式会社堀場エステック（HORIBA STEC, Co., Ltd.）は、株式会社堀場製作所の連結子会社であり、半導体製造プロセスにおいて極めて重要な役割を果たす流体（気体・液体）の流量制御機器、特にマスフローコントローラ（MFC）を主力製品としています。この分野において、同社は世界市場で30%以上のシェアを占めるリーディングカンパニーとしての地位を確立しています。本拠地は京都市南区に置かれています。

設立と事業展開

同社の起源は、1974年1月19日に設立された株式会社スタンダードテクノロジに遡ります。これは、通商産業省（現経済産業省）の指導のもと、公害測定機器に関する技術の確立を目指し、堀場製作所、島津製作所、東芝ベックマン（現ベックマン・コールター）、高千穂化学工業の4社が共同出資して誕生しました。設立当初の社名が示す通り、時代の要請に応じた技術開発に焦点を当てていました。

その後、蓄積された高精度な流体制御技術は、急速に発展する半導体製造分野へと応用展開されました。クリーンな環境下で微細な加工を行う半導体製造には、ガスや液体の流量を精密に制御する技術が不可欠であり、同社の技術がこれに応える形で成長を遂げました。1984年1月19日には株式会社エステックへ、さらに2004年7月1日には現在の株式会社堀場エステックへと社名を変更しています。

主力製品と技術

堀場エステックの事業の中核を成すのは、半導体製造プロセスで使用される各種ガスの供給量を正確に制御するマスフローコントローラです。この製品を中心に、液体材料を気化させて供給する装置や、真空状態を正確に計測する真空計測機器など、半導体製造における流体制御と計測に関する幅広い製品群を開発・提供しています。

技術革新への取り組みも積極的であり、近年では世界トップレベルの技術力を持つ米国ベンチャー企業との連携を深めています。これには、四重極質量分析計や真空計に関する知的財産権（IP権）の取得、さらには先進的なマスフローコントローラ関連技術や製品の導入が含まれます。これにより、最先端の半導体製造ニーズに対応するための技術基盤を強化しています。

グループとの連携とグローバル展開

堀場エステックは、「HORIBA Group is One Company.」という堀場グループ全体の経営方針のもと、親会社である堀場製作所やグループ内の半導体事業部と緊密に連携しています。これにより、半導体や液晶パネルの製造に不可欠な流体制御機器や検査装置の共同開発や販売を推進し、グループとしての総合力を活かした事業展開を行っています。

グローバルな生産・開発体制も構築しており、2005年10月にはHORIBAグループの量産拠点として熊本県に阿蘇新工場を竣工させました。また、2007年7月には米国のシリコンバレーにテクノロジーセンターを開設。これは、半導体産業をはじめとする世界のハイテク産業の集積地において、顧客との連携を強化し、最先端の技術開発を推進するための戦略的な拠点となっています。

主な沿革

1974年1月19日：株式会社スタンダードテクノロジ設立
1984年1月19日：株式会社エステックに社名変更
1988年9月：阿蘇工場竣工
1991年2月：米国現地法人 Stec Instruments Inc. (現 HORIBA/STEC Inc.) 設立
1994年12月：韓国現地法人 エステックコリア (現 HORIBA STEC KOREA Ltd.) 設立
1996年11月：台湾支店設立
2003年3月：米国ベンチャー企業より真空計のIP権を取得
2003年4月：米国ベンチャー企業よりマスフローコントローラ関連技術・製品を導入
2004年7月1日：株式会社堀場エステックに社名変更
2005年1月：堀場製作所の完全子会社となる
2005年10月：阿蘇新工場竣工
2005年11月：米国ベンチャー企業より四重極質量分析計のIP権を取得
2007年7月：米国シリコンバレーにテクノロジーセンターを開設

組織・所在地

代表者: 代表取締役社長 堀場 弾
本社: 京都市南区上鳥羽鉾立町11-5
主な営業拠点: 東京、京都、仙台、名古屋、九州
* 海外拠点: 台湾（支店）、韓国（HORIBA STEC KOREA Ltd.）、米国（HORIBA/STEC Inc.）

堀場エステックは、長年にわたり培ってきた流体制御技術と、HORIBAグループの一員としての強みを活かし、世界の半導体産業の発展に貢献し続けています。

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