[アンチモン]]化[[ガリウム]は、
[ガリウム]と
[アンチモン]という元素が化学結合したIII-V族化合物半導体です。III-V族化合物とは、周期表のIII族元素とV族元素からなる化合物の総称で、シリコンに代わる半導体材料として広く利用されています。GaSbは、その優れた特性から様々な電子デバイスへの応用が期待されています。
物理的特性
GaSbの
結晶構造は
閃亜鉛鉱型構造をとり、
格子定数は約0.61ナノメートルです。これは、他のIII-V族化合物半導体と比較して特筆すべき値であり、デバイス設計において重要なパラメータとなります。
バンドギャップは0.73 eV(室温)と比較的狭く、赤外線領域の光に対して高い感度を示します。また、
電子移動度も高く、高速動作が可能なデバイスの開発に適しています。
歴史
GaSbは、
1926年にスイスの鉱物学者ヴィクトール・モーリッツ・ゴルトシュミットによって初めて合成されました。彼は不活性ガス雰囲気下で
ガリウムと
アンチモンを直接反応させる方法を用いました。その後、GaSbの結晶成長技術や特性評価技術が進歩し、より高品質なGaSb結晶の作製が可能となりました。特に、1955年にはKosterやGreenfieldによるGa-Sb相平衡に関する研究が重要な進歩をもたらしました。これらの研究により、GaSbの組成制御や欠陥制御に関する知見が深まり、デバイス応用への道が開かれました。
用途
GaSbの高い
電子移動度と狭い
バンドギャップという特性を活かし、様々な用途に利用されています。代表的な用途としては、以下のものが挙げられます。
赤外線検出器: GaSbは、赤外線光を電気信号に変換する赤外線検出器の材料として最適です。特に、中赤外線領域での高い感度が特徴であり、熱画像センサや分光分析装置などに用いられています。
赤外線発光ダイオード(LED)とレーザーダイオード: GaSbをベースとしたLEDやレーザーダイオードは、赤外線領域の光を効率よく発光します。光通信やリモートセンシングなどの用途に利用されています。
高電子移動度トランジスタ(HEMT): GaSbは、HEMTの高性能化にも貢献しています。HEMTは、高速動作や低ノイズ特性が求められる無線通信機器などに使用されています。
熱電発電: 熱エネルギーを電気エネルギーに変換する熱電発電においても、GaSbは高い熱電変換効率を示す材料として期待されています。
関連物質
GaSbと関連性の高いIII-V族化合物半導体としては、
[アンチモン]]化アルミニウム(AlSb)、アンチモン化インジウム(InSb)、ヒ化[[ガリウム]などがあります。これらの材料は、GaSbと同様、電子デバイスの材料として広く利用されています。GaSbの特性とこれらの材料の特性を比較検討することで、より高性能なデバイスの設計が可能になります。
今後の展望
GaSbは、今後も赤外線技術や高周波デバイス技術の発展に大きく貢献すると期待されています。特に、高品質な結晶成長技術やデバイス作製技術の更なる進歩により、より高性能なデバイスの開発が加速すると考えられます。また、GaSbと他のIII-V族化合物半導体の組み合わせによる新規デバイスの開発も盛んに行われており、今後の更なる発展が期待されます。