リン化ホウ素:高い融点と半導体特性を併せ持つ化合物
リン化
[ホウ素]は、
[ホウ素]とリン(P)から構成される
二元化合物です。
CAS登録番号は[20205-91-8]で、その融点は非常に高く、2400K(約2127℃)を超えます。この高い融点は、BPの高い結合エネルギーと結晶構造の安定性に起因すると考えられています。
BPの最も重要な特徴の一つは、その半導体としての性質です。この特性は、電子デバイスへの応用を期待させるものです。BPは、
閃亜鉛鉱構造(Zinc blende structure)という結晶構造をとります。これは、亜鉛鉱である
閃亜鉛鉱と同じ結晶構造を持つことを意味し、この構造がBPの電気的、光学的特性に大きな影響を与えています。
初期の研究では、BPの半導体特性に関する重要な知見が得られました。1960年、StoneとHillによる研究論文では、立方晶系のBPの半導体特性が詳細に報告されています。この論文は、BPの半導体研究における重要なマイルストーンとなりました。
近年では、BPを用いた発光デバイスの開発も盛んに行われています。例えば、特許文献には、BPをベースとしたp-n接合型半導体発光デバイスとその製造方法が記載されています。これは、BPの高い融点と半導体特性を活かし、高温動作可能な発光デバイスを実現する可能性を示唆しています。
BPは、他の
[ホウ素]]化合物やリン化物と比較することで、その特性をより深く理解することができます。例えば、窒化
ホウ素]やヒ素化
[ホウ素]は、BPと同様に
[ホウ素を含む化合物ですが、結晶構造や物性が異なります。また、
リン化アルミニウム]やリン化ガリウム(III)(GaP)は、BPと同様にIII-V族半導体として知られていますが、[[ホウ素ではなくアルミニウムやガリウムを含む化合物です。これらの化合物との比較研究を通して、BPの特異な性質が明らかになります。
このように、リン化
ホウ素は、その高い融点と半導体特性という特異な組み合わせを持つ物質です。その結晶構造や物性に関する研究は継続的に行われており、将来的には、電子デバイスや光デバイス分野における新たな応用が期待されます。特に、高温環境下での動作が求められるデバイスへの応用は、BPの高い融点という特性を活かす上で重要なポイントとなるでしょう。今後の研究開発により、BPの潜在能力がさらに解き明かされていくことでしょう。
参考文献
Boron Chemistry at the Millennium, Editor: R.B. King, Elsevier Science & Technology (1999) ISBN 0-444-72006-5
P-n junction type boron phosphide-based semiconductor light-emitting device and production method thereof, United States Patent 6831304
Semiconducting Properties of Cubic Boron Phosphide, B. Stone and D. Hill, Phys. Rev. Lett. vol. 4, 282–284 (1960) doi:10.1103/PhysRevLett.4.282
関連項目
ヒ素化
ホウ素
窒化
ホウ素
リン化アルミニウム
* リン化ガリウム(III)