菅野卓雄

菅野卓雄の略歴と業績



菅野卓雄(すがのたくお、生年1931年8月25日)は、日本の著名な電子工学者であり、各種の公職を歴任してきた。当初は東京府に出生し、東京大学での学びを経て、工学の分野で非常に重要な貢献を果たした。

教育とキャリアの初期



彼は1950年、東京都立新宿高等学校を卒業する。その後、1954年に東京大学工学部電気工学科を卒業、さらに1956年には東京大学で工学修士号を取得した。1959年には「高周波トランジスタに関する研究 - 設計理論とパンチスルー効果を利用したトランジスタ製作法」のテーマで工学博士号を取得する。彼の学術的な探求は、ここから始まった。

1960年1月からは東京大学工学部助教授に就任し、その後1971年には教授となる。1991年には工学部長に就任し、国際フロンティア研究システムのフロンティア・マテリアル研究グループのディレクターとしても活躍した。1992年に東洋大学教授となり、その後、工学部長、学長を経て、理事長の地位に就く。

研究分野と業績



菅野の主な研究領域は、固体エレクトロニクスおよび電界効果トランジスタに関するものである。1960年代前半には、シリコンMOS電界効果トランジスタの開発に深く関与し、半導体層と酸化膜層との界面に関する基礎的な研究を行った。彼は理論と実験の両方からこの研究に取り組み、様々な成果を上げている。

特に、ナトリウムイオンのドリフトに関連する電界効果トランジスタの特性不安定化について、リン原子の添加によって制御可能なメカニズムを特定したことは、彼の重要な業績の一つである。また、界面準位の精密測定法を考案し、その起源および低減手法についても詳しく解析した。さらに、素子の微細化に伴う特性劣化を理解するために、ゲートの極短チャネル化に関する研究も行い、この分野の基礎を築いた。

加えて、菅野は電界効果トランジスタにおける電子伝導機構を探求し、二次元系の量子効果に関する物理的基盤を提供したことでも知られている。彼の研究は、半導体技術の進化や大規模集積回路の微細化に寄与し、多くの技術革新の基礎を築いた。

受賞歴と栄典



菅野はその業績により、多くの賞を受賞している。1974年には松永賞を、1992年にはIEEEジャック・A・モートン賞を受賞。さらに2001年にはC&C賞、2016年にはIEEEロバート・ノイス・メダルを受賞した。加えて、1995年には紫綬褒章、2006年には瑞宝重光章、2011年には文化功労者としての名誉を受けた。

最後に



菅野卓雄は、東京大学および東洋大学名誉教授として、学界において多大な影響を与え、工学分野の発展に寄与し続けている。彼の業績は、今後の技術革新にも影響を与えることだろう。

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